制造业:1月26日

欧盟FIB项目;氢脱钝光刻。

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欧盟FIB项目
欧洲联盟(EU)有启动新项目利用聚焦离子束(FIB)系统开发下一代结构和材料。

这项名为“纳米材料聚焦离子技术”(FIT4NANO)的欧盟项目由Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf (HZDR)组织牵头。该项目旨在将欧洲研究人员和公司聚集在一起,开发新的基于光纤网络的技术和应用。来自30个国家的约80个实验和理论工作组参与了该项目。

FIT4NANO是欧盟欧洲科学技术合作(成本)计划的一部分。该项目每年为FIT4NANO提供高达12万欧元的资金。

多年来在市场上,小谎被广泛应用于许多领域。在操作中,样品被放置在FIB系统中。FIB系统使用一束离子,它可以以纳米级的精度修改或“磨”样品表面,根据赛默费雪科学公司的说法。FIB可以产生微小部件或去除不需要的材料。

利用FIB, FIT4NANO项目希望开发功能性纳米结构、2D材料和其他技术。另一个应用涉及到氦离子显微镜系统的开发,该系统使用先进的聚焦离子束以高分辨率成像样品。

该项目涉及四组人。第一组是开发新的纳米材料。第二组是开发新的离子源或FIB的其他部分。另一个小组希望能更好地了解离子和固体之间的相互作用。第四组将推广研究结果。

“聚焦离子束为纳米技术的许多应用提供了巨大的潜力,”HZDR的离子束物理和材料研究所离子诱导纳米结构小组的负责人、FIT4NANO项目的协调员Gregor Hlawacek说。“例如,它可以被用来在纳米尺度上灵活地构造表面,或者具体地改变局部材料的属性。我们的技术可能对量子技术、半导体工业或二维材料(只有一层或几层原子或分子构成的晶体材料)具有重大意义。小谎在未来的医疗应用中也将扮演重要角色。”

氢脱钝光刻
德克萨斯大学达拉斯分校开发了一种技术,用于开发硅基量子器件氢钝化光刻

该项目的目标是消除量子比特(量子计算机中的基本信息单元)开发中的一些挑战。

HDL有时被称为无电阻光刻。在这个过程中,氢原子在硅表面形成。实际上,氢原子起着抵抗剂的作用。然后,使用扫描隧道显微镜(STM),尖端向表面注入电子,打破键并在结构上形成图案。

与此同时,量子计算与传统计算不同。在经典计算中,信息以位存储,位可以是“0”或“1”。然而,在量子计算中,信息被存储在量子位中,量子位可以以“0”或“1”的形式存在,也可以以两者的组合存在。

叠加态使量子计算机能够同时执行数百万次计算,使其性能优于传统系统。但量子计算仍处于起步阶段,还有很长的路要走。

德克萨斯大学的研究人员已经找到了一种方法,为硅基量子比特的发展提供更好的控制。

在实验室里,研究人员从硅表面开始。然后,它们在表面覆盖一层氢。然后,使用一个带有尖锐尖端的STM,根据设备的期望模式,去除或操纵表面的氢原子。

不过,STM有时会移除错误的原子,从而制造出故障的设备。作为回应,研究人员正在研究一种更精确的操纵原子的方法。下一个挑战将是开发一种可以同时操作多个STM技巧的技术。

“传统的光刻技术不能达到必需的原子精度。问题是我们用显微镜来做光刻;我们正在使用一种设备来做一些它不是为设计而设计的事情,”Reza Moheimani说,他是James Von Ehr科学技术杰出主席,也是德克萨斯大学Erik Jonsson工程与计算机科学学院的系统工程教授。“我们的最新工作提高了制造过程的精度。我们也在努力提高吞吐量、速度和可靠性。”



1评论

艾伦Rasafar 说:

谢谢你分享这篇很有前瞻性的文章。
这是未来光刻技术发展的一个很好的方向。与EUV光刻相比,它可以产生更好的成像和减少足迹。

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